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半导体行业动态20250206

时间:2025-02-06 09:51:07

1. TEL低温刻蚀技术量产400层3D NAND,功耗降40%;  
2. HBM定制化需求激增,三星SK海力士加速技术迭代;  
3. 中国半导体设备国产化率升至25%,华泰预测市场回落17%;  
4. 第三代半导体材料量产加速,碳化硅器件助力航天电源升级;  
5. 澜起科技PCIe 6.x/CXL 3.x芯片送样,推动AI服务器性能突破。  

(来源:陕西省半导体行业协会)

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